半导体产业四大核心设备——光刻机、离子注入机、刻蚀机、薄膜沉积机，这其中光刻机是最经常被人提及的，原因很简单，因为光刻机是最难的。

杨东升也是正式涉足光刻机领域后，才知道这一块有多难。

如果是追着外国人的屁股研究的话，他们永远别想赶上别人，而且永远也别想盈利，他们无论做出何种等级的设备，西方国家马上就会解除对同等设备的禁运，一点市场也别想拿到。

得益于杨东升的先知先觉，东升半导体决定直接上马极紫外线光刻相关技术。

杨东升敢这么做，是因为光刻机不是必须做出第一代设备，才能做第二代设备。

光刻机三大核心部件——光源、镜头、工作台。

其中的关键技术光源，深紫外线使用的是准分子激光，跟下一代极紫外线光源关联很少！

而且准分子激光技术应用很广泛，此项技术不止美国一家掌握，想绕过美国相对简单，相比之下极紫外线光源技术就比较妖孽了。

后世阿斯麦的极紫外线光刻机，使用的光源是采用激光持续轰击锡滴产生的。

由于锡滴发光效率很低，极紫外线又只占所有光线的百分之几，因此必须使用足够强的激光轰击锡滴，才能发出足够的光——至少得是3万瓦以上，而且还得持续不停的轰击。

大功率激光问题，准确命中锡滴……每一项都是要命的技术。

在镜头上，极紫外线也与深紫外线有很大不同，极紫外线非常容易被吸收，深紫外线阶段使用的透镜式镜头已经不能使用了，因为镜头材料直接会把极紫外线吸收掉，必须使用反射式镜头。

由于极紫外线的波长只有十几个纳米，镜头纳米级精度已经不够用了。

极紫外线用的反射式镜头，精度必须达到皮米级。

必须要用等离子抛光设备，这东西中国没有，国外也买不来，只能自己造。

镜头上还要镀膜，把极紫外光以外的其他光线，通过镀膜吸收掉。

这种规格的镀膜机，也买不来，杨东升也得自己造。

这些还不算完，由于极紫外线非常容易被吸收，即便空气也会吸收极紫外线，所以整个工作环境必须保持高度真空。

光刻机内部必须先使用普通真空泵抽一遍，再用分子真空泵抽一遍，这还不够，必须还得用吸附式方法，再抽一遍。

杨东升敢把还在研制中的技术，拿给他们看的原因就是光刻机的整体构造，其实没什么秘密可言，考验的就是实打实的工业实力。

这其实是最讨厌的地方！

中国进口了上千台航空发动机，但是对自身航空发动机技术的提升，几乎没有任何作用，就是同样的原因。

很多人以中国做不出极紫外线光刻机嘲笑中国科技，中国确实做不出来，但是美国人独自也做不出来极紫外线光刻机。

荷兰阿斯麦的极紫外线光刻机使用的是美国的光源，德国的镜头，瑞典的轴承，法国的阀件……可以说集合了西方所有发达国家先进技术于一身。

看似没有秘密，其实到处都是秘密！